熱紅外顯微鏡與光學(xué)顯微鏡雖同屬微觀觀測工具，但在原理、功能與應(yīng)用場景上存在明顯差異，尤其在失效分析等專業(yè)領(lǐng)域各有側(cè)重。

從工作原理看，光學(xué)顯微鏡利用可見光（400-760nm 波長）的反射或透射成像，通過放大樣品的物理形態(tài)（如結(jié)構(gòu)、顏色、紋理）呈現(xiàn)細節(jié)，其主要是捕捉 “可見形態(tài)特征”；而熱紅外顯微鏡則聚焦 3-10μm 波長的紅外熱輻射，通過檢測樣品自身發(fā)射的熱量差異生成熱分布圖，本質(zhì)是捕捉 “不可見的熱信號”。

在主要功能上，光學(xué)顯微鏡擅長觀察樣品的表面形貌、結(jié)構(gòu)缺陷（如裂紋、變形），適合材料微觀結(jié)構(gòu)分析、生物樣本觀察等；熱紅外顯微鏡則專注于微觀熱行為解析，能識別因電路缺陷、材料熱導(dǎo)差異等產(chǎn)生的溫度異常，即使是納米級的微小熱點（如半導(dǎo)體芯片的漏電區(qū)域）也能精確捕捉，這是光學(xué)顯微鏡無法實現(xiàn)的。

從適用場景來看，光學(xué)顯微鏡是通用型觀測工具，廣泛應(yīng)用于基礎(chǔ)科研、教學(xué)等領(lǐng)域；而熱紅外顯微鏡更偏向?qū)I(yè)細分場景，尤其在半導(dǎo)體失效分析中，可定位短路、虛焊等隱性缺陷引發(fā)的熱異常，在新材料研發(fā)中能分析不同組分的熱傳導(dǎo)特性，為解決 “熱相關(guān)問題” 提供關(guān)鍵依據(jù)。 熱紅外顯微鏡可實時監(jiān)測電子設(shè)備運行中的熱變化，預(yù)防過熱故障 。檢測用熱紅外顯微鏡內(nèi)容

熱紅外顯微鏡(Thermal EMMI)的突出優(yōu)勢二：

與傳統(tǒng)接觸式檢測方法相比，熱紅外顯微鏡的非接觸式檢測優(yōu)勢更勝——無需與被測設(shè)備直接物理接觸，從根本上規(guī)避了傳統(tǒng)檢測中因探針壓力、靜電放電等因素對設(shè)備造成的損傷風(fēng)險，這對精密電子元件與高精度設(shè)備的檢測尤為關(guān)鍵。在接觸式檢測場景中，探針接觸產(chǎn)生的機械應(yīng)力可能導(dǎo)致芯片焊點形變或線路微損傷，而靜電放電（ESD）更可能直接擊穿敏感半導(dǎo)體器件。

相比之下，熱紅外顯微鏡通過捕捉設(shè)備運行時的熱輻射信號實現(xiàn)非侵入式檢測，不僅能在設(shè)備正常工作狀態(tài)下獲取實時數(shù)據(jù)，更避免了因接觸干擾導(dǎo)致的檢測誤差，大幅提升了檢測過程的安全性與結(jié)果可靠性。這種非接觸式技術(shù)突破，為電子設(shè)備的故障診斷與性能評估提供了更優(yōu)解。 檢測用熱紅外顯微鏡內(nèi)容熱紅外顯微鏡可用于研究電子元件在不同環(huán)境下的熱行為 。

熱紅外顯微鏡（Thermal EMMI）技術(shù)，作為半導(dǎo)體失效分析領(lǐng)域的關(guān)鍵手段，通過捕捉器件內(nèi)部產(chǎn)生的熱輻射，實現(xiàn)失效點的精細定位。它憑借對微觀熱信號的高靈敏度探測，成為解析半導(dǎo)體故障的 “火眼金睛”。然而，隨著半導(dǎo)體技術(shù)不斷升級，器件正朝著超精細圖案制程與低供電電壓方向快速演進：線寬進入納米級，供電電壓降至 1V 以下。這使得失效點（如微小短路、漏電流區(qū)域）產(chǎn)生的熱量急劇減少，其輻射的紅外線信號強度降至傳統(tǒng)檢測閾值邊緣，疊加芯片復(fù)雜結(jié)構(gòu)的背景輻射干擾，信號提取難度呈指數(shù)級上升。

無損熱紅外顯微鏡的非破壞性分析（NDA）技術(shù)，為失效分析提供了 “保全樣品” 的重要手段。它在不損傷高價值樣品的前提下，捕捉隱性熱信號以定位內(nèi)部缺陷，既保障了分析的準確性，又為后續(xù)驗證、復(fù)盤保留了完整樣本，讓失效分析從 “找到問題” 到 “解決問題” 的閉環(huán)更高效、更可靠。

相較于無損熱紅外顯微鏡的非侵入式檢測，這些有損分析方法雖能獲取內(nèi)部結(jié)構(gòu)信息，但會破壞樣品完整性，更適合無需保留樣品的分析場景，與無損分析形成互補。 熱紅外顯微鏡利用鎖相技術(shù)，有效提升熱成像的清晰度與準確性 。

在失效分析中，零成本簡單且常用的三個方法基于“觀察-驗證-定位”的基本邏輯，無需復(fù)雜設(shè)備即可快速縮小失效原因范圍：

1.外觀檢查法（VisualInspection）

2.功能復(fù)現(xiàn)與對比法（FunctionReproduction&Comparison）

3.導(dǎo)通/通路檢查法（ContinuityCheck）

但當失效分析需要進階到微觀熱行為、隱性感官缺陷或材料/結(jié)構(gòu)內(nèi)部異常的層面時，熱紅外顯微鏡（Thermal EMMI) 能成為關(guān)鍵工具，與基礎(chǔ)方法結(jié)合形成更深度的分析邏輯。在進階失效分析中，熱紅外顯微鏡可捕捉微觀熱分布，鎖定電子元件微區(qū)過熱（如虛焊、短路）、材料內(nèi)部缺陷（如裂紋、氣泡）引發(fā)的隱性熱異常，結(jié)合動態(tài)熱演化記錄，與基礎(chǔ)方法協(xié)同，從 “不可見” 熱信號中定位失效根因。 熱紅外顯微鏡在材料研究領(lǐng)域，常用于觀察材料微觀熱傳導(dǎo)特性。科研用熱紅外顯微鏡與光學(xué)顯微鏡對比

熱紅外顯微鏡支持芯片、電路板等多類電子元件熱檢測。檢測用熱紅外顯微鏡內(nèi)容

在國內(nèi)失效分析設(shè)備領(lǐng)域，專注于原廠研發(fā)與生產(chǎn)的企業(yè)數(shù)量相對較少，尤其在熱紅外檢測這類高精度細分領(lǐng)域，具備自主技術(shù)積累的原廠更為稀缺。這一現(xiàn)狀既源于技術(shù)門檻 —— 需融合光學(xué)、紅外探測、信號處理等多學(xué)科技術(shù)，也受限于市場需求的專業(yè)化程度，導(dǎo)致多數(shù)企業(yè)傾向于代理或集成方案。

致晟光電正是國內(nèi)少數(shù)深耕該領(lǐng)域的原廠之一。不同于單純的設(shè)備組裝，其從中樞技術(shù)迭代入手，在傳統(tǒng)熱發(fā)射顯微鏡基礎(chǔ)上進化出熱紅外顯微鏡，形成從光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計、信號算法研發(fā)到整機制造的完整能力。這種原廠基因使其能深度理解國內(nèi)半導(dǎo)體、材料等行業(yè)的失效分析需求，例如針對先進制程芯片的微小熱信號檢測、國產(chǎn)新材料的熱特性研究等場景，提供更貼合實際應(yīng)用的設(shè)備與技術(shù)支持，成為本土失效分析領(lǐng)域不可忽視的自主力量。 檢測用熱紅外顯微鏡內(nèi)容