得注意的是，兩種技術(shù)均支持對(duì)芯片進(jìn)行正面檢測(cè)（從器件有源區(qū)一側(cè)觀測(cè)）與背面檢測(cè)（透過(guò)硅襯底觀測(cè)），可根據(jù)芯片結(jié)構(gòu)、封裝形式靈活選擇檢測(cè)角度，確保在大范圍掃描中快速鎖定微小失效點(diǎn)（如微米級(jí)甚至納米級(jí)缺陷）。在實(shí)際失效分析流程中，PEM系統(tǒng)先通過(guò)EMMI與OBIRCH的協(xié)同掃描定位可疑區(qū)域，隨后結(jié)合去層處理（逐層去除芯片的金屬布線層、介質(zhì)層等）、掃描電子顯微鏡（SEM）的高分辨率成像以及光學(xué)顯微鏡的細(xì)節(jié)觀察，進(jìn)一步界定缺陷的物理形態(tài)（如金屬線腐蝕、氧化層剝落、晶體管柵極破損等），終追溯失效機(jī)理（如電遷移、熱載流子注入、工藝污染等）并完成根因分析。這種“定位-驗(yàn)證-溯源”的完整閉環(huán)，使得PEM系統(tǒng)在半導(dǎo)體器件與集成電路的失效分析領(lǐng)域得到了關(guān)鍵的應(yīng)用。但歐姆接觸和部分金屬互聯(lián)短路時(shí)，產(chǎn)生的光子十分微弱，難以被微光顯微鏡偵測(cè)到，借助近紅外光進(jìn)行檢測(cè)。。紅外光譜微光顯微鏡聯(lián)系人

適用場(chǎng)景的分野，進(jìn)一步凸顯了二者（微光顯微鏡&熱紅外顯微鏡）的互補(bǔ)價(jià)值。在邏輯芯片、存儲(chǔ)芯片的量產(chǎn)檢測(cè)中，微光顯微鏡通過(guò)對(duì)細(xì)微電缺陷的篩查，助力提升產(chǎn)品良率，降低批量報(bào)廢風(fēng)險(xiǎn)；而在功率器件、車規(guī)芯片的可靠性測(cè)試中，熱紅外顯微鏡對(duì)熱分布的監(jiān)測(cè)，成為驗(yàn)證產(chǎn)品穩(wěn)定性的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。實(shí)際檢測(cè)中，二者常組合使用：微光顯微鏡定位電缺陷后，熱紅外顯微鏡可進(jìn)一步分析該缺陷是否引發(fā)異常發(fā)熱，形成 “光 - 熱” 聯(lián)動(dòng)的全維度分析，為企業(yè)提供更佳的故障診斷依據(jù)。紅外光譜微光顯微鏡市場(chǎng)價(jià)國(guó)外微光顯微鏡價(jià)格高昂，常達(dá)上千萬(wàn)元，我司國(guó)產(chǎn)設(shè)備工藝完備，技術(shù)成熟，平替性價(jià)比高。

隨著器件尺寸的逐漸變小，MOS器件的溝道長(zhǎng)度也逐漸變短。短溝道效應(yīng)也愈發(fā)嚴(yán)重。短溝道效應(yīng)會(huì)使得MOS管的漏結(jié)存在一個(gè)強(qiáng)電場(chǎng)，該電場(chǎng)會(huì)對(duì)載流子進(jìn)行加速，同時(shí)賦予載流子一個(gè)動(dòng)能，該載流子會(huì)造成中性的Si原子被極化，產(chǎn)生同樣帶有能量的電子與空穴對(duì)，這種電子與空穴被稱為熱載流子，反映在能帶圖中就是電位更高的電子和電位更低的空穴。一部分熱載流子會(huì)在生成后立馬復(fù)合，產(chǎn)生波長(zhǎng)更短的熒光，另一部分在電場(chǎng)的作用下分離。電子進(jìn)入柵氧層，影響閾值電壓，空穴進(jìn)入襯底，產(chǎn)生襯底電流。歸因于短溝道效應(yīng)能在MOS管的漏端能看到亮點(diǎn)，同樣在反偏PN結(jié)處也能產(chǎn)生強(qiáng)場(chǎng)，也能觀察到亮點(diǎn)。

在半導(dǎo)體 MEMS 器件檢測(cè)領(lǐng)域，微光顯微鏡憑借其超靈敏的感知能力，展現(xiàn)出不可替代的技術(shù)價(jià)值。MEMS 器件的結(jié)構(gòu)往往以微米級(jí)尺度存在，這些微小部件在運(yùn)行過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生極其微弱的紅外輻射變化 —— 這種信號(hào)強(qiáng)度常低于常規(guī)檢測(cè)設(shè)備的感知閾值，卻能被微光顯微鏡及時(shí)捕捉。通過(guò)先進(jìn)的光電轉(zhuǎn)換與信號(hào)放大技術(shù)，微光設(shè)備將捕捉到的紅外輻射信號(hào)轉(zhuǎn)化為直觀的動(dòng)態(tài)圖像。通過(guò)圖像分析工具，可量化提取結(jié)構(gòu)的位移幅度、振動(dòng)頻率等關(guān)鍵參數(shù)。這種檢測(cè)方式突破了傳統(tǒng)接觸式測(cè)量對(duì)微結(jié)構(gòu)的干擾問(wèn)題。我司設(shè)備面對(duì)閘極氧化層缺陷，微光顯微鏡可檢測(cè)其漏電，助力及時(shí)解決相關(guān)問(wèn)題，避免器件性能下降或失效。

漏電是芯片另一種常見的失效模式，其誘因復(fù)雜多樣，既可能源于晶體管長(zhǎng)期工作后的老化衰減，也可能由氧化層存在裂紋等缺陷引發(fā)。

與短路類似，芯片內(nèi)部發(fā)生漏電時(shí)，漏電路徑中會(huì)伴隨微弱的光發(fā)射現(xiàn)象——這種光信號(hào)的強(qiáng)度往往遠(yuǎn)低于短路產(chǎn)生的光輻射，對(duì)檢測(cè)設(shè)備的靈敏度提出了極高要求。EMMI憑借其的微光探測(cè)能力，能夠捕捉到漏電產(chǎn)生的極微弱光信號(hào)。通過(guò)對(duì)芯片進(jìn)行全域掃描，可將漏電區(qū)域以可視化圖像的形式清晰呈現(xiàn)，使工程師能直觀識(shí)別漏電位置與分布特征。

在超導(dǎo)芯片檢測(cè)中，可捕捉超導(dǎo)態(tài)向正常態(tài)轉(zhuǎn)變時(shí)的異常發(fā)光，助力超導(dǎo)器件的性能優(yōu)化。鎖相微光顯微鏡校準(zhǔn)方法

微光顯微鏡的便攜款桌面級(jí)設(shè)計(jì)，方便在生產(chǎn)線現(xiàn)場(chǎng)快速檢測(cè)，及時(shí)發(fā)現(xiàn)產(chǎn)品問(wèn)題，減少不合格品流出。紅外光譜微光顯微鏡聯(lián)系人

通過(guò)對(duì)這些微光信號(hào)的成像與定位，它能直接“鎖定”電性能缺陷的物理位置，如同在黑夜中捕捉螢火蟲的微光，實(shí)現(xiàn)微米級(jí)的定位。而熱紅外顯微鏡則是“溫度的解讀師”，依托紅外熱成像技術(shù)，它檢測(cè)的是芯片工作時(shí)因能量損耗產(chǎn)生的溫度差異。電流通過(guò)芯片時(shí)的電阻損耗、電路短路時(shí)的異常功耗，都會(huì)轉(zhuǎn)化為局部溫度的細(xì)微升高，這些熱量以紅外輻射的形式散發(fā)，被熱紅外顯微鏡捕捉并轉(zhuǎn)化為熱分布圖。通過(guò)分析溫度異常區(qū)域，它能間接推斷電路中的故障點(diǎn)，尤其擅長(zhǎng)發(fā)現(xiàn)與能量損耗相關(guān)的問(wèn)題。紅外光譜微光顯微鏡聯(lián)系人