這一技術(shù)不僅有助于快速定位漏電根源(如特定晶體管的柵氧擊穿、PN結(jié)邊緣缺陷等),更能在芯片量產(chǎn)階段實現(xiàn)潛在漏電問題的早期篩查,為采取針對性修復措施(如優(yōu)化工藝參數(shù)、改進封裝設(shè)計)提供依據(jù),從而提升芯片的長期可靠性。例如,某批次即將交付的電源管理芯片在出廠前的EMMI抽檢中,發(fā)現(xiàn)部分芯片的邊角區(qū)域存在持續(xù)穩(wěn)定的微弱光信號。結(jié)合芯片的版圖設(shè)計與工藝參數(shù)分析,確認該區(qū)域的NMOS晶體管因柵氧層局部厚度不足導致漏電。技術(shù)團隊據(jù)此對這批次芯片進行篩選,剔除了存在漏電隱患的產(chǎn)品,有效避免了缺陷芯片流入市場后可能引發(fā)的設(shè)備功耗異常、發(fā)熱甚至燒毀等風險。我司微光顯微鏡能檢測內(nèi)部缺陷,通過分析光子發(fā)射評估性能,為研發(fā)、生產(chǎn)和質(zhì)量控制提供支持。鎖相微光顯微鏡品牌排行
微光顯微鏡無法檢測不產(chǎn)生光子的失效(如歐姆接觸、金屬短路),且易受強光環(huán)境干擾;熱紅外顯微鏡則難以識別無明顯溫度變化的失效(如輕微漏電但功耗極低的缺陷),且溫度信號可能受環(huán)境熱傳導影響。
實際分析中,二者常結(jié)合使用,通過 “光 - 熱” 信號交叉驗證,提升失效定位的準確性。致晟光電在技術(shù)創(chuàng)新的征程中,實現(xiàn)了一項突破性成果 —— 將熱紅外顯微鏡與微光顯微鏡集可以集成于一臺設(shè)備,只需一次采購,便可以節(jié)省了重復的硬件投入。 工業(yè)檢測微光顯微鏡我司團隊改進算法等技術(shù),整合出 EMMI 芯片漏電定位系統(tǒng),價低且數(shù)據(jù)整理準、操作便,性價比高,居行業(yè)先頭。
致晟光電將熱紅外顯微鏡(Thermal EMMI)與微光顯微鏡 (EMMI) 集成的設(shè)備,在維護成本控制上展現(xiàn)出優(yōu)勢。對于分開的兩臺設(shè)備,企業(yè)需配備專門人員分別學習兩套系統(tǒng)的維護知識,培訓內(nèi)容涵蓋不同的機械結(jié)構(gòu)、光學原理、軟件操作,還包括各自的故障診斷邏輯與校準流程,往往需要數(shù)月的系統(tǒng)培訓才能確保人員熟練操作,期間產(chǎn)生的培訓費用、時間成本居高不下。而使用一套集成設(shè)備只需一套維護體系,維護人員只需掌握一套系統(tǒng)的維護邏輯與操作規(guī)范,無需在兩套差異化的設(shè)備間切換學習,培訓周期可縮短近一半,大幅降低了培訓方面的人力與資金投入。
需要失效分析檢測樣品,我們一般會在提前做好前期的失效背景調(diào)查和電性能驗證工作,能夠為整個失效分析過程找準方向、提供依據(jù),從而更高效、準確地找出芯片失效的原因。
1.失效背景調(diào)查收集芯片型號、應(yīng)用場景、失效模式(如短路、漏電、功能異常等)、失效比例、使用環(huán)境(溫度、濕度、電壓)等。確認失效是否可復現(xiàn),區(qū)分設(shè)計缺陷、制程問題或應(yīng)用不當(如過壓、ESD)。
2.電性能驗證使用自動測試設(shè)備(ATE)或探針臺(ProbeStation)復現(xiàn)失效,記錄關(guān)鍵參數(shù)(如I-V曲線、漏電流、閾值電壓偏移)。對比良品與失效芯片的電特性差異,縮小失效區(qū)域(如特定功能模塊)。 微光顯微鏡能檢測半導體器件微小缺陷和失效點,及時發(fā)現(xiàn)隱患,保障設(shè)備可靠運行、提升通信質(zhì)量。
致晟光電 RTTLIT E20 微光顯微分析系統(tǒng)(EMMI)是一款專為半導體器件漏電缺陷檢測量身打造的高精度檢測設(shè)備。該系統(tǒng)搭載先進的 - 80℃制冷型 InGaAs 探測器與高分辨率顯微物鏡,憑借超高檢測靈敏度,可捕捉器件在微弱漏電流信號下產(chǎn)生的極微弱微光。通過超高靈敏度成像技術(shù),設(shè)備能快速定位漏電缺陷并開展深度分析,為工程師優(yōu)化生產(chǎn)工藝、提升產(chǎn)品可靠性提供關(guān)鍵支持,進而為半導體器件的質(zhì)量控制與失效分析環(huán)節(jié)提供安全可靠的解決方案。我司自主研發(fā)的桌面級設(shè)備其緊湊的機身設(shè)計,可節(jié)省實驗室空間,適合在小型研發(fā)機構(gòu)或生產(chǎn)線上靈活部署。半導體微光顯微鏡牌子
支持離線數(shù)據(jù)分析,可將檢測圖像導出后進行深入處理,不占用設(shè)備的實時檢測時間。鎖相微光顯微鏡品牌排行
隨著器件尺寸的逐漸變小,MOS器件的溝道長度也逐漸變短。短溝道效應(yīng)也愈發(fā)嚴重。短溝道效應(yīng)會使得MOS管的漏結(jié)存在一個強電場,該電場會對載流子進行加速,同時賦予載流子一個動能,該載流子會造成中性的Si原子被極化,產(chǎn)生同樣帶有能量的電子與空穴對,這種電子與空穴被稱為熱載流子,反映在能帶圖中就是電位更高的電子和電位更低的空穴。一部分熱載流子會在生成后立馬復合,產(chǎn)生波長更短的熒光,另一部分在電場的作用下分離。電子進入柵氧層,影響閾值電壓,空穴進入襯底,產(chǎn)生襯底電流。歸因于短溝道效應(yīng)能在MOS管的漏端能看到亮點,同樣在反偏PN結(jié)處也能產(chǎn)生強場,也能觀察到亮點。鎖相微光顯微鏡品牌排行