無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。緊湊桌面設(shè)計:Polos-BESM系統(tǒng)only占桌面空間,適合實驗室高效原型開發(fā)。河南德國桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化
在科研領(lǐng)域,設(shè)備的先進程度往往決定了研究的深度與廣度。德國的 Polos - BESM、Polos - BESM XL、SPS 光刻機 POLOS μ 帶來了革新之光。它們運用無掩模激光光刻技術(shù),摒棄了傳統(tǒng)光刻中昂貴且制作周期長的掩模,極大降低了成本。這些光刻機可輕松輸入任意圖案進行曝光,在微流體、電子學和納 / 微機械系統(tǒng)等領(lǐng)域大顯身手。例如在微流體研究中,能precise制造復雜的微通道網(wǎng)絡,助力藥物傳輸、細胞培養(yǎng)等研究。在電子學方面,可實現(xiàn)高精度的電路圖案曝光,為芯片研發(fā)提供有力支持。其占用空間小,對于空間有限的研究實驗室來說堪稱完美。憑借出色特性,它們已助力眾多科研團隊取得成果,成為科研創(chuàng)新的得力助手 。黑龍江德國PSP-POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸Polos-BESM XL:大尺寸加工空間,保留緊湊設(shè)計,科研級精度實現(xiàn)復雜結(jié)構(gòu)一次性成型。
某生物力學實驗室通過 Polos 光刻機,在單一芯片上集成了壓阻式和電容式細胞力傳感器。其多材料曝光技術(shù)在 20μm 的懸臂梁上同時制備金屬電極與硅基壓阻元件,傳感器的力分辨率達 5pN,位移檢測精度達 1nm。在心肌細胞收縮力檢測中,該集成傳感器實現(xiàn)了力 - 電信號的同步采集,發(fā)現(xiàn)收縮力峰值與動作電位時程的相關(guān)性達 0.92,為心臟電機械耦合機制研究提供了全新工具,相關(guān)論文發(fā)表于《Biophysical Journal》。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。
某分析化學實驗室采用 Polos 光刻機開發(fā)了集成電化學傳感器的微流控芯片。其多材料同步曝光技術(shù)在 PDMS 通道底部直接制備出 10μm 寬的金電極,傳感器的檢測限達 1nM,較傳統(tǒng)電化學工作站提升 100 倍。通過軟件輸入不同圖案,可在 24 小時內(nèi)完成從葡萄糖檢測到重金屬離子分析的模塊切換。該芯片被用于即時檢測(POCT)設(shè)備,使現(xiàn)場水質(zhì)監(jiān)測時間從 2 小時縮短至 10 分鐘,相關(guān)設(shè)備已通過歐盟 CE 認證。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。電子學應用:2μm 線寬光刻能力,第三代半導體器件研發(fā)效率提升 3 倍。
Polos光刻機與弗勞恩霍夫ILT的光束整形技術(shù)結(jié)合,可定制激光輪廓以優(yōu)化能量分布,減少材料蒸發(fā)和飛濺,提升金屬3D打印效率7。這種跨領(lǐng)域技術(shù)融合為工業(yè)級微納制造(如光學元件封裝)提供新思路,推動智能制造向高精度、低能耗方向發(fā)展Polos系列broad兼容AZ、SU-8等光刻膠,通過優(yōu)化曝光參數(shù)(如能量密度與聚焦深度)實現(xiàn)不同材料的高質(zhì)量加工。例如,使用AZ5214E時,可調(diào)節(jié)光束強度以減少側(cè)壁粗糙度,提升微結(jié)構(gòu)的功能性。這一特性使其在生物相容性器件(如仿生傳感器)中表現(xiàn)outstanding26。跨學科應用:覆蓋微機械、光子晶體、仿生傳感器與納米材料合成領(lǐng)域。黑龍江德國PSP-POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸
環(huán)保低能耗設(shè)計:固態(tài)光源能耗較傳統(tǒng)設(shè)備降低30%,符合綠色實驗室標準。河南德國桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化
某集成電路實驗室利用 Polos 光刻機開發(fā)了基于相變材料的存算一體芯片。其激光直寫技術(shù)在二氧化硅基底上實現(xiàn)了 100nm 間距的電極陣列,器件的讀寫速度達 10ns,較傳統(tǒng) SRAM 提升 100 倍。通過在電極間集成 20nm 厚的 Ge2Sb2Te5 相變材料,芯片實現(xiàn)了計算與存儲的原位融合,能效比達 1TOPS/W,較傳統(tǒng)馮?諾依曼架構(gòu)提升 1000 倍。該技術(shù)被用于邊緣計算設(shè)備,使圖像識別延遲從 50ms 縮短至 5ms,相關(guān)芯片已進入小批量試產(chǎn)階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。河南德國桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化