QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實(shí)現(xiàn)通過(guò)簡(jiǎn)單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造，以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量。總而言之，工業(yè)級(jí)QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝，適用于晶圓級(jí)批量加工。作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫(xiě)系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技（上海）有限公司歡迎你一起探討增材制造技術(shù)的現(xiàn)狀和未來(lái)趨勢(shì)。浙江高分辨率增材制造Photonic Professional GT

QuantumX新型超高速無(wú)掩模光刻技術(shù)的中心是Nanoscribe獨(dú)有的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級(jí)復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。另外，Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)要點(diǎn)，這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到精細(xì)同步，這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級(jí)復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。廣東Nanoscribe增材制造工藝Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解增材制造的特性。

借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù)，您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像，適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用（lab-on-a-chip）。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細(xì)胞支架來(lái)研究細(xì)胞生長(zhǎng)、遷移和干細(xì)胞分化。此外，3D微納加工技術(shù)還可以應(yīng)用在微創(chuàng)手術(shù)的生物醫(yī)學(xué)儀器，包括植入物，微針和微孔膜等制作。Nanoscribe的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說(shuō)

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。金屬3D打印技術(shù)具有廣闊的應(yīng)用前景。

全新GlassPrintingExplorerSet是Nanoscribe公司推出的頭一個(gè)用于熔融石英玻璃微納結(jié)構(gòu)3D微納加工的商用高精度增材制造工藝和材料。新型光刻膠GP-Silica是GlassPrintingExplorerSet的中心內(nèi)容，也是世界上只有的一款用于熔融石英玻璃微納加工的光刻膠。這種打印材料因其高光透性，出色的熱穩(wěn)性，機(jī)械性能和化學(xué)穩(wěn)定性脫穎而出。這為探索生命科學(xué)，微流控，微納光學(xué)，材料工程和其他微納技術(shù)領(lǐng)域的新應(yīng)用開(kāi)辟了更多可能性。TheGlassPrintingExplorerSet拓寬了注重耐高溫特性，化學(xué)和機(jī)械穩(wěn)定性以及光透性的高精度3D微納加工應(yīng)用。雙光子聚合技術(shù)（2PP）的高精度結(jié)合熔融石英玻璃的出色玻璃性能，推動(dòng)者生命科學(xué)，微流控，微納光學(xué)及其他領(lǐng)域新應(yīng)用的發(fā)展和探索?！氨M管所需的后期熱處理要求很高，GP-Silica在我們研究制造復(fù)雜的微流體系統(tǒng)方面具有巨大的潛力。”瑞士弗里堡大學(xué)工程與建筑學(xué)院助理教授兼圖像打印系主任NicolasMuller博士總結(jié)道。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn)，您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解增材制造的主要特性和測(cè)試方法。北京微納機(jī)器人增材制造Quantum X shape

增材制造技術(shù)已經(jīng)應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域，譬如航天、新材料、先進(jìn)制造。浙江高分辨率增材制造Photonic Professional GT

增材制造（AdditiveManufacturing，AM）俗稱3D打印，融合了計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)、材料加工與成型技術(shù)、以數(shù)字模型文件為基礎(chǔ)，通過(guò)軟件與數(shù)控系統(tǒng)將金屬材料、非金屬材料以及醫(yī)用生物材料，按照擠壓、燒結(jié)、熔融、光固化、噴射等方式逐層堆積，制造出實(shí)體物品的制造技術(shù)。相對(duì)于傳統(tǒng)的、對(duì)原材料去除－切削、組裝的加工模式不同，是一種“自下而上”通過(guò)材料累加的制造方法，從無(wú)到有。這使得過(guò)去受到傳統(tǒng)制造方式的約束，而無(wú)法實(shí)現(xiàn)的復(fù)雜結(jié)構(gòu)件制造變?yōu)榭赡堋Ｕ憬叻直媛试霾闹圃霵hotonic Professional GT