企業(yè)用戶(hù)何如去采購(gòu)適合自己的設(shè)備？

功能側(cè)重的差異，讓它們?cè)谛酒瑱z測(cè)中各司其職。微光顯微鏡的 “專(zhuān)長(zhǎng)” 是識(shí)別電致發(fā)光缺陷，對(duì)于邏輯芯片、存儲(chǔ)芯片等高密度集成電路中常見(jiàn)的 PN 結(jié)漏電、柵氧擊穿、互連缺陷等細(xì)微電性能問(wèn)題，它能提供的位置信息，是芯片失效分析中定位 “電故障” 的工具。

例如，在 7nm 以下先進(jìn)制程芯片的檢測(cè)中，其高靈敏度可捕捉到單個(gè)晶體管異常產(chǎn)生的微弱信號(hào)，為工藝優(yōu)化提供關(guān)鍵依據(jù)。

熱紅外顯微鏡則更關(guān)注 “熱失控” 風(fēng)險(xiǎn)，在功率半導(dǎo)體、IGBT 等大功率器件的檢測(cè)中表現(xiàn)突出。這類(lèi)芯片工作時(shí)功耗較高，散熱性能直接影響可靠性，短路、散熱通道堵塞等問(wèn)題會(huì)導(dǎo)致局部溫度驟升，熱紅外顯微鏡能快速生成熱分布圖譜，直觀呈現(xiàn)熱點(diǎn)位置與溫度梯度，幫助工程師判斷散熱設(shè)計(jì)缺陷或電路短路點(diǎn)。在汽車(chē)電子等對(duì)安全性要求極高的領(lǐng)域，這種對(duì)熱異常的敏銳捕捉，是預(yù)防芯片失效引發(fā)安全事故的重要保障。

在超導(dǎo)芯片檢測(cè)中，可捕捉超導(dǎo)態(tài)向正常態(tài)轉(zhuǎn)變時(shí)的異常發(fā)光，助力超導(dǎo)器件的性能優(yōu)化。低溫?zé)嵛⒐怙@微鏡24小時(shí)服務(wù)

半導(dǎo)體企業(yè)購(gòu)入微光顯微鏡設(shè)備，是提升自身競(jìng)爭(zhēng)力的關(guān)鍵舉措，原因在于芯片測(cè)試需要找到問(wèn)題點(diǎn) —— 失效分析。失效分析能定位芯片設(shè)計(jì)缺陷、制造瑕疵或可靠性問(wèn)題，直接決定產(chǎn)品良率與市場(chǎng)口碑。微光顯微鏡憑借高靈敏度的光子探測(cè)能力，可捕捉芯片內(nèi)部微弱發(fā)光信號(hào)，高效識(shí)別漏電、熱失控等隱性故障，為優(yōu)化生產(chǎn)工藝、提升芯片性能提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)支撐。在激烈的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中，快速完成失效分析意味著縮短研發(fā)周期、降低返工成本，同時(shí)通過(guò)提升產(chǎn)品可靠性鞏固客戶(hù)信任，這正是半導(dǎo)體企業(yè)在技術(shù)迭代與市場(chǎng)爭(zhēng)奪中保持優(yōu)勢(shì)的邏輯。低溫?zé)嵛⒐怙@微鏡工作原理與原子力顯微鏡聯(lián)用時(shí)，微光顯微鏡可同步獲取樣品的表面形貌和發(fā)光信息，便于關(guān)聯(lián)材料的結(jié)構(gòu)與電氣缺陷。

對(duì)半導(dǎo)體研發(fā)工程師而言，排查的過(guò)程層層受阻。在逐一排除外圍電路異常、生產(chǎn)工藝制程損傷等潛在因素后，若仍未找到癥結(jié)，往往需要芯片原廠介入，通過(guò)剖片分析深入探究?jī)?nèi)核。

然而，受限于專(zhuān)業(yè)分析設(shè)備的缺乏，再加上芯片內(nèi)部設(shè)計(jì)涉及機(jī)密，工程師難以深入了解其底層構(gòu)造，這就導(dǎo)致他們?cè)诿鎸?duì)原廠出具的分析報(bào)告時(shí)，常常陷入 “被動(dòng)接受” 的局面 —— 既無(wú)法完全驗(yàn)證報(bào)告的細(xì)節(jié)，也難以基于自身判斷提出更具針對(duì)性的疑問(wèn)或補(bǔ)充分析方向。

InGaAs微光顯微鏡與傳統(tǒng)微光顯微鏡在原理和功能上具有相似之處，均依賴(lài)于電子-空穴對(duì)復(fù)合產(chǎn)生的光子及熱載流子作為探測(cè)信號(hào)源。然而，InGaAs微光顯微鏡相較于傳統(tǒng)微光顯微鏡，呈現(xiàn)出更高的探測(cè)靈敏度，并且其探測(cè)波長(zhǎng)范圍擴(kuò)展至900nm至1700nm，而傳統(tǒng)微光顯微鏡的探測(cè)波長(zhǎng)范圍限于350nm至1100nm。這一特性使得InGaAs微光顯微鏡具備更更好的波長(zhǎng)檢測(cè)能力，從而拓寬了其應(yīng)用領(lǐng)域。進(jìn)一步而言，InGaAs微光顯微鏡的這一優(yōu)勢(shì)使其在多個(gè)科研與工業(yè)領(lǐng)域展現(xiàn)出獨(dú)特價(jià)值。在半導(dǎo)體材料研究中，InGaAs微光顯微鏡能夠探測(cè)到更長(zhǎng)的波長(zhǎng)，這對(duì)于分析材料的缺陷、雜質(zhì)以及能帶結(jié)構(gòu)等方面具有重要意義。支持離線數(shù)據(jù)分析，可將檢測(cè)圖像導(dǎo)出后進(jìn)行深入處理，不占用設(shè)備的實(shí)時(shí)檢測(cè)時(shí)間。

EMMI 微光顯微鏡作為集成電路失效分析的重要設(shè)備，其漏電定位功能對(duì)于失效分析工程師而言是不可或缺的工具。在集成電路領(lǐng)域，對(duì)芯片的可靠性有著極高的要求。在芯片運(yùn)行過(guò)程中，微小漏電現(xiàn)象較為常見(jiàn)，且在特定條件下，這些微弱的漏電可能會(huì)被放大，導(dǎo)致芯片乃至整個(gè)控制系統(tǒng)的失效。因此，芯片微漏電現(xiàn)象在集成電路失效分析中占據(jù)著至關(guān)重要的地位。此外，考慮到大多數(shù)集成電路的工作電壓范圍在3.3V至20V之間，工作電流即便是微安或毫安級(jí)別的漏電流也足以表明芯片已經(jīng)出現(xiàn)失效。因此，準(zhǔn)確判斷漏流位置對(duì)于確定芯片失效的根本原因至關(guān)重要。 針對(duì)納米級(jí)半導(dǎo)體器件，搭配超高倍物鏡，能分辨納米尺度的缺陷發(fā)光，推動(dòng)納米電子學(xué)研究。鎖相微光顯微鏡性?xún)r(jià)比

電路驗(yàn)證中出現(xiàn)閂鎖效應(yīng)及漏電，微光顯微鏡可定位位置，為電路設(shè)計(jì)優(yōu)化提供依據(jù)，保障系統(tǒng)穩(wěn)定運(yùn)行。低溫?zé)嵛⒐怙@微鏡24小時(shí)服務(wù)

EMMI的本質(zhì)只是一臺(tái)光譜范圍廣，光子靈敏度高的顯微鏡。

但是為什么EMMI能夠應(yīng)用于IC的失效分析呢？

原因就在于集成電路在通電后會(huì)出現(xiàn)三種情況：1.載流子復(fù)合；2.熱載流子；3.絕緣層漏電。當(dāng)這三種情況發(fā)生時(shí)集成電路上就會(huì)產(chǎn)生微弱的熒光，這時(shí)EMMI就能捕獲這些微弱熒光，這就給了EMMI一個(gè)應(yīng)用的機(jī)會(huì)而在IC的失效分析中，我們給予失效點(diǎn)一個(gè)偏壓產(chǎn)生熒光，然后EMMI捕獲電流中產(chǎn)生的微弱熒光。原理上，不管IC是否存在缺陷，只要滿足其機(jī)理在EMMI下都能觀測(cè)到熒光 低溫?zé)嵛⒐怙@微鏡24小時(shí)服務(wù)